Crogiolo di ricristallizzazione in carburo di silicio ad alta durezza Capsula Sisic per l'industria dei semiconduttori

Crogiolo di ricristallizzazione in carburo di silicio ad alta durezza Capsula Sisic per l'industria dei semiconduttori

Crogiolo di ricristallizzazione in carburo di silicio ad alta durezza, capsula Sisic per l'industria dei semiconduttori.
Informazioni di base
CertificazioneISO, ISO9001
Modulopiazza
ColoreSchwarz
Resistenza al fuoco1380
TipCrogiolo in carburo di silicio
tempi di consegna25-30 riprese
Materia primaToner, polvere di silicone
ApplicazioneCeramiche industriali, refrattari, forni industriali
Misurarecome esigenze del cliente
utilizzoContro acidi e alcali forti
densitàPiù di 3,02 g/cm3
Conduttività termica45 (1200 gradi Celsius)
Durezza di Mohs9.15
Vickershärte Hv20 GP
Porosità apertaMeno dello 0,1%
Resistente agli acidi-alcaliEccellente
Pacchetto di trasportoCustodia in legno con morbida schiuma
specificaA seconda della quantità dell'ordine
marchioBD / Secondo le esigenze del cliente
OrigineWeifang, Cina
Codice HS6903900000
Capacità produttiva5000 pezzi/mese
Descrizione del prodotto

Crogiolo di ricristallizzazione in carburo di silicio ad alta durezza Capsula Sisic per l'industria dei semiconduttori

Il sacchetto Sisic sinterizzato di reazione presenta resistenza alle alte temperature, buona stabilità allo shock termico, piccolo coefficiente di espansione, resistenza alla corrosione, resistenza alla pelatura, buona resistenza alla polvere e buon scorrimento alle alte temperature. E la velocità di conduzione del calore è elevata, il che riscalda i prodotti in modo uniforme, riduce efficacemente il consumo di energia, accelera la velocità di combustione e migliora le prestazioni. È ampiamente utilizzato nella sinterizzazione di componenti elettronici, materiali magnetici e varie polveri ceramiche.

Caratteristiche:
Buona conduttività termica
Ottima resistenza agli sbalzi di temperatura
Buona resistenza all'ossidazione
Eccellente resistenza agli acidi
Buona resistenza al calore
Buona resistenza alle alte temperature

Foto per riferimento:

High hardness recrystallization silicon carbide crucibles Sisic saggers for semiconductor industry


High hardness recrystallization silicon carbide crucibles Sisic saggers for semiconductor industry

High hardness recrystallization silicon carbide crucibles Sisic saggers for semiconductor industry

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Dati tecnici

Articolo

Dati

Temperatura di applicazione

1380°C

densità

≥3,02 g/cm³

Porosità aperta

<0,1 %

Resistenza alla flessione

250 (20 °C)MPa

280 (1200 °C) MPa

modulo di elasticità

330(20°C)Gpa

300 (1200 °C)Gpa

Conduttività termica

45(1200°C)W/mk

Il coefficiente di dilatazione termica

4,5K-1x10-6

Rigidità

13

High hardness recrystallization silicon carbide crucibles Sisic saggers for semiconductor industry